光刻胶检测机构

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

光刻胶检测项目

质量检测、厚度、均匀性、边缘效应、光学性能、粘度、溶解度、黏度、流动性、比重、抗蚀性(刻蚀)、表面张力、耐化学性、耐热性、耐光性、粘滞性黏度、粘附性、常规检测、第三方检测、现场检测等。（具体以客户实际情况为准）

光刻胶检测范围

行光分解型光刻胶、负性胶光刻胶、正性胶光刻胶、报告灯光刻胶、研究灯光刻胶、半导体灯光刻胶、正型灯光刻胶、紫外灯光刻胶、去胶剂灯光刻胶、可行性灯光刻胶、光交联型光刻胶、含硅光刻胶等。

光刻胶检测标准（部分）

1、 IPC MI-660 5.3-1984 干电影光刻胶

2、 T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

3、 T/ICMTIA 5.1-2020 集成电路用 ArF 干式光刻胶

4、 DIN 50455-2:1999-11 半导体技术材料测试 光刻胶表征方法 第2部分：正性光刻胶光敏性的测定

5、 ASTM F581-78(1991)e1 光刻胶加速老化的实施规程

6、 T/ICMTIA 5.2-2020 集成电路用ArF浸没式光刻胶

7、 AIR FORCE A-A-59404-1999 便携式液压油型光刻胶配量器

8、 ASTM F907-85(1992)e1 光刻胶旋涂用圆片旋转加速度测量的试验方法

9、 ASTM F907-85E01R92 光刻胶旋涂用圆片旋转加速度测量的试验方法

光刻胶检测流程

1、联系客服、沟通检测需求；

2、根据实际情况确定样品递送流程、上门取样、送样、邮寄样品；

3、对样品进行初步、获取样品的特性以及相关指标；

4、根据客户的需求、根据检测经验及标准方法、定制试验方案；

5、进行试验、得到试验数据、出具测试报告；

6、完善的售后服务、可随时咨询；

上海复达检测是法定第三方检测机构，具有CMA、CNAS等资质，光刻胶检测服务面向全国，包含上海、北京、天津、沈阳、济南、南京、苏州、杭州、宁波、合肥、郑州、武汉、长沙、广州、深圳、成都、西安等地区。