溅射镀膜设备检测，磁控溅射镀膜检测机构

磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。

磁控溅射镀膜检测范围

磁控溅射镀膜、真空溅射镀膜等。

磁控溅射镀膜检测项目

外观质量、附着力评级、测量分光曲线、盐雾测试、高温高湿、光密度、膜厚度、反射率、均匀性、蚀刻时间、均匀性测试、表面质量检测、膜厚度、常规检测、第三方检测等。（具体以客户实际情况为准）

磁控溅射镀膜检测周期：7-15个工作日(参考周期，可加急)

磁控溅射镀膜检测标准（部分）

1、 T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

2、 T/CSEA 15-2021 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验

3、 JB/T 8945-2010 真空溅射镀膜设备

4、 JB/T 8945-1999 真空溅射镀膜设备

5、 YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶

6、 YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶

7、 T/ZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材

8、 T/SZS 4034-2021 贵金属首饰表面磁控溅射镀铑工艺技术规范

9、 YS/T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法

磁控溅射镀膜检测流程

1、联系客服，沟通检测需求；

2、根据实际情况确定样品递送流程，上门取样/送样/邮寄样品；

3、对样品进行初步、获取样品的特性以及相关指标；

4、根据客户的需求，根据检测经验及标准方法，定制试验方案；

5、进行试验，得到试验数据，出具测试报告；

6、完善的售后服务，可随时咨询；

以上是有关磁控溅射镀膜检测的相关介绍，复达检测中心将会为您提供完备的检测方案，CMA资质认证机构，能为您解答工业问题诊断、未知物检测鉴定、材料及化工品失效、成分分析、性能测试等服务。